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金属硅化物因其薄膜电阻率低,熔点高,化学性质稳定,在微电子领域具有广阔的使用前景。本文系统地阐述了硅化钛的性质、制备方法(包括自对准硅化物技术及CVD技术)及其应用。对硅化钛在集成电路中的应用进行了重点介绍。
硅化钛薄膜的制备与应用
【摘 要】
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金属硅化物因其薄膜电阻率低,熔点高,化学性质稳定,在微电子领域具有广阔的使用前景。本文系统地阐述了硅化钛的性质、制备方法(包括自对准硅化物技术及CVD技术)及其应用。对
【机 构】
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江铃汽车集团南昌大学环境科学与工程学院化工系江西南昌江西南昌
【出 处】
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电镀与涂饰
【发表日期】
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2007年09期
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