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用Mg2Si制备SiH4必然伴随产生Si2H6.经二级低温冷凝 ,分子筛吸附和恒温恒压汽化等工艺技术过程,能够对两种气体进行最有效的分离 .并且可以制备Si2H6和总杂质含量≤10×10-6,基磷＜0.2×10-9, 基硼＜0.05×10-9的高纯SiH4.
SiH4，Si2H6的制备与分离
【摘 要】
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用Mg2Si制备SiH4必然伴随产生Si2H6.经二级低温冷凝 ,分子筛吸附和恒温恒压汽化等工艺技术过程,能够对两种气体进行最有效的分离 .并且可以制备Si2H6和总杂质含量≤10×1
【机 构】
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浙江大学硅材料国家重点实验室,光明化工研究设计院
【出 处】
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低温与特气
【发表日期】
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2001年3期
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