【摘 要】
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研究了各种氧化工艺对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响.结果表明,TiN薄膜在400℃于不同时间整体氧化时,表面Ti液滴和TiN相发生不同程度的氧化,转变成具有金红石型的TiO2
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研究了各种氧化工艺对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响.结果表明,TiN薄膜在400℃于不同时间整体氧化时,表面Ti液滴和TiN相发生不同程度的氧化,转变成具有金红石型的TiO2薄膜,提高了膜层表面的致密性,而TiN薄膜的整体组织结构未发生较大改变.随着氧化时间的延长,在40 min后硬度才略有下降,内应力下降,膜层的结合力提高,并具有较好的耐磨性能.
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