【摘 要】
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目的:探究铁磁/反铁磁双层膜和三层膜系统中反铁磁层对铁磁层所起的钉扎作用。方法:采用直流磁控溅射法制备了一系列Ni 50 Mn 50/Ni 81 Fe 19/Ni 50 Mn 50三层膜和Ni 81 Fe 1
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(No.51771175,12004361)
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目的:探究铁磁/反铁磁双层膜和三层膜系统中反铁磁层对铁磁层所起的钉扎作用。方法:采用直流磁控溅射法制备了一系列Ni 50 Mn 50/Ni 81 Fe 19/Ni 50 Mn 50三层膜和Ni 81 Fe 19/Ni 50 Mn 50双层膜,研究了不同厚度的铁磁层和反铁磁层对此类薄膜交换偏置场和矫顽力的影响。结果:三层膜的交换偏置场要大于双层膜的交换偏置场,并且可以观察到反铁磁层总厚度相同情况下,固定顶层厚度改变底层厚度薄膜的交换偏置场总是大于固定底层厚度改变顶层厚度的薄膜。结论:反铁磁层的未补偿钉扎磁矩
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