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对不同遮光条件下窄头橐吾Ligularia stenocephala形态及光合特性进行研究。结果表明：遮光处理对窄头橐吾形态特性有明显影响．在55％的遮光条件下。窄头橐吾具有较高的相对生长率。窄头橐吾的净光合速率日变化曲线在不同光照条件下均呈“双峰”型，在13：00出现明显的光合“午休”现象。在0（全光照），55％和75％遮光条件下，窄头橐吾的光补偿点分别为13．20，15．10和8．63μmol·m^-2·s^-1；光饱和点分别为919．66，749．20和727．34μmol