【摘 要】
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在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜。实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响。分别利用XRD,SEM和四探针
【基金项目】
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陕西省自然科学基金资助项目(2010JQ6008);陕西省科学研究计划(21080209JK608);陕西省重点学科建设专项资金资助项目;西安理工大学现代分析测试中心提供的资助;西安金唐材料应用科技有限公司提供的资助
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在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜。实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响。分别利用XRD,SEM和四探针技术对Mo薄膜的相结构、表面和截面形貌及电阻率进行表征分析。结果表明,随着磁控阴极S值的增加,Mo靶放电电压降低,而放电电流增加;不同S值的磁控阴极沉积的Mo薄膜均呈现多晶结构,且具有柱状生长特征;随着磁控阴极S因子的增加Mo膜的厚度和电导率呈现先增加而后减小的变化规律,电阻率最小可达4.9×10-6Ω·cm。
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