有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究

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【摘要】

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本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98 nm,同时根据XRD结果作者推测

【作者】

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徐芳沈上越谢静

【出处】

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过程工程学报

【发表日期】

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2004年z1期

【关键词】

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蒙脱石有机蒙脱石正交法层间距模式

【基金项目】

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国土资源部项目(编号:121280201102)

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本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98 nm,同时根据XRD结果作者推测出蒙脱石插层结构排列演变模式为:单层平卧→倾斜单层→假三层→倾斜双层.其中倾斜单层结构中能达到的最大层间距3.22 nm.

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