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以金属钛为靶材、O2/N2/Ar混合气氛为溅射气体，在导电玻璃（ITO）表面磁控溅射一层薄膜，再经300—500℃退火处理制备了氮掺杂TiO2薄膜．采用X射线衍射（XRD）、X光电子能谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）和紫外．可见吸收光谱等对薄膜的微观结构、光学特性和光电化学性能等进行了研究．进而采用化学沉积的方法在TiO2-xNx薄膜表面沉积上一层多孔NiO薄膜，研究表明，制备的ITO／TiO2-xNx／NiO双层薄膜具有明显的光电致色特性，400℃退火处理的氮掺杂TiO。薄膜具有最高的光电流响应，