NiOxHy薄膜的电致变色特性和机理

来源 :物理化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：a155327050

【摘要】

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运用循环伏安和阶跃电位方法研究了Ni（OH）2粉末靶直流溅射沉积的NiOxHy薄膜电致变色特性．结合实时的光透射-时间变化，发现着色后的薄膜在零外电势下有一自发的消色过程，该过程可能

【作者】

：

吴正华丘思畴

【机构】

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华中理工大学固体电子学系

【出处】

：

物理化学学报

【发表日期】

：

1996年7期

【关键词】

：

氧化镍薄膜电致变色 XPS谱循环伏安法 NiO_xH_y thin film Electrochemical ion insertion/extract

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运用循环伏安和阶跃电位方法研究了Ni（OH）2粉末靶直流溅射沉积的NiOxHy薄膜电致变色特性．结合实时的光透射-时间变化，发现着色后的薄膜在零外电势下有一自发的消色过程，该过程可能对应着Li+的自发注入。着色没有自发过程，获取了着消色状态Ni2p3／2和O1s的XPS谱，表明在着色态镍被氧化，消色态镍被还原，相应地氧的化学环境发生改变．

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