激光等离子体消融参量的测量与计算

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本文首次直接利用离子测量的结果,对实验数据进行理论分析与计算,详细讨论了激光等离子体,特别是线状激光等离子体的消融参量,给出了它们对激光辐照强度的定标律。
其他文献
直到目前为止,所有关于液态激光器的研制工作均集中在以烯土金属盐类或其络合物的溶液作为工作物质的激光体系方面。某些具有发光能力的有机物溶液,由于其光谱谱线不淸晰,激发态粒子寿命短促而不利于获得足够大的集居数反转程度,不适用于激光体系。然而,对某些有机物的溶液来说,有机分子在激发态肘的解离常数和在基态时相比有很大的差别。本文将讨论利用这种溶液获得粒子集居数反转的可能性。
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最近,三洋电机公司采用分子束外延法,研制成功外微分量子效率达80%、内量子效率为95%的GaAlAs系列半导体激光器。以前,这种激光器仅电子和空穴的复合部能使光不泄出,而新研制的激光器由于采用了使晶体成分以数埃量级变化的晶体生长方法,开发出在1500埃的范围内不让光泄出的梯度折射率波长分开限制的异质结构(GRIN-SCH结抅),从而使该激光器的内量子效率提高到95%。
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制备了Er3 /Yb3 共掺氟化物基质颗粒并对其吸收光谱进行测试。研究了不同基质、煅烧温度以及不同的Er3 /Yb3 共掺比例对颗粒在980 nm及1550 nm波段附近吸收特性的影响。应用Judd-Ofelt(J-O)理论对样品光谱进行了分析,拟合得到强度参数为Ω2=9.9887,Ω4=2.7333,Ω6=0.4868。结果表明,样品通过高温热处理提高了声子辅助跃迁几率,提高了能量转化效率。Er3 /Yb3 以16比例混合共掺时吸收性能最好。J-O理论分析表明,氟化物颗粒有较低的声子能量,Er3 /Yb
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13.5 nm波长极紫外(EUV)光刻机的分辨率虽然很高,但因波长的减小使其对像差的容忍度降低,有必要研究像差对EUV光刻成像的影响。针对四类典型像差的波前特征,选取对像差最敏感的四种测试图形,研究像差对光刻成像特征尺寸和最佳聚焦点偏差量的影响。在满足焦深要求的条件下,给出各单类像差的最大允许范围,最后将四类像差总值控制在0.04λ内,从仿真分析的角度研究了实际工艺生产对像差的要求,即总像差需控制在0.025λ以内,约0.34 nm。
随机光学重构显微(STORM)的时间和空间分辨率相互制约,难以实现活细胞的超分辨成像,且超分辨图像的后处理分析与重构算法对图像质量也有非常重要的影响。基于此,针对高密度标记与高采样率所导致的单帧图像中光斑重叠及过多的背景噪声,提出一种用于单分子定位显微成像的新型噪声校正主成分分析(NC-PCA)方法,对单分子定位显微成像采集的图像进行预处理后再进行定位重构,提高了现有定位方法的定位精度,同时还实现
组合逆向反射镜系统在二维精密工作台激光定干涉仪中起着立方角棱镜的作用.但它在晃动中易于引起附加光程.本文导出了附加光程的计算公式,提出了减小误差的措施.
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