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以钛酸丁酯[Ti（OB）4],无水乙醇,乙酰丙酮（AcAc）等为原料,采用溶胶-凝胶和喷涂方法制备自清洁瓷砖。以油酸为有机污染模拟物,研究了TiO2薄膜厚度及热处理制度等工艺因素对自清洁性能的影响。结果表明当热处理温度450℃、保温40~60min、膜厚在60~70nm,可以获得光催化性能优良的自清洁瓷砖。采用XRD等测试手段对薄膜的物相组成等进行了表征,揭示了瓷砖自清洁性能与薄膜结构之间的关系。