【摘 要】
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为了减少原子层沉积(ALD)方法在氧化物薄膜制备过程中ALD反应气对有机电致发光器件(OLED)性能的影响,利用旋涂光交联聚合物技术,直接在OLED上形成有机/无机/有机3层结构的保
【机 构】
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吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,
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为了减少原子层沉积(ALD)方法在氧化物薄膜制备过程中ALD反应气对有机电致发光器件(OLED)性能的影响,利用旋涂光交联聚合物技术,直接在OLED上形成有机/无机/有机3层结构的保护薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)的表面形貌分析表明,3层结构的封装薄膜表面平滑且致密,减少水(H2O)汽在氧化物表面积聚,降低H2O对氧化物薄膜的腐蚀作用,且成膜过程对OLED的各功能层没有伤害。经Ca薄膜的电学方法测量证明,这种3层结构的封装薄膜对气体有极高的阻隔作用,其H2O汽透过率(WVTR)可以达到9.0×10-5 g/(m2·day),从而实现了对OLED的有效保护。
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