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目的:探究制备在聚酰亚胺PI柔性衬底上的Ni 81 Fe 19/Ni 50 Mn 50双层膜的交换偏置效应。方法:采用直流磁控溅射技术分别在硅片和PI衬底上制备Ni 81 Fe 19/Ni 50 Mn 50双层膜,经相同温度退火处理后使用振动样品磁强计测试样品的磁滞回线。结果:柔性衬底上生长的双层膜的交换偏置场大小基本等于硅衬底上生长的,但其矫顽力始终比硅衬底上的大;薄膜的交换偏置场和矫顽力随着铁磁层厚度增大呈线性减小,随着反铁磁层厚度增大呈先增大后减小最后稳定的趋势,柔性衬底上薄膜的交换偏置场和矫顽力还