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高压氧化系统正被人们用于高密度集成电路的生产中,以便在低温下获得快速氧化;商品化的系统可提供高达25个大气压的压力,这对湿氧氧化来说是很理想的,目前这方面的研究工作包括对一种样机系统的研究,这种系统目前人们正在建造,以便研究在高达700大气压下干氧生长氧化物的可能性。
用于生产中的高压氧化系统
【摘 要】
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高压氧化系统正被人们用于高密度集成电路的生产中,以便在低温下获得快速氧化;商品化的系统可提供高达25个大气压的压力,这对湿氧氧化来说是很理想的,目前这方面的研究工作包
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1982年02期
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