【摘 要】
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用高能量密度脉冲等离子体于室温下在氮化硅陶瓷刀具上成功沉积了高硬耐磨的氮化钛涂层.薄膜厚度用光学显微镜和俄歇电子能谱仪测定,薄膜元素和相组成与分布分别用俄歇电子能
【机 构】
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清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,中国科学院物理研究所
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用高能量密度脉冲等离子体于室温下在氮化硅陶瓷刀具上成功沉积了高硬耐磨的氮化钛涂层.薄膜厚度用光学显微镜和俄歇电子能谱仪测定,薄膜元素和相组成与分布分别用俄歇电子能谱仪、X光电子能谱以及X光衍射仪测定,薄膜微观结构用扫描电镜观察,薄膜表面粗糙度用光学显微镜测定,薄膜力学性能由纳米压痕实验和纳米划痕实验确定,薄膜的磨损性能用工业条件下的切削实验评价.实验结果表明,在最优化条件下,涂层与基体的结合力很好,纳米划痕实验临界载荷达80 mN以上;氮化钛涂层具有很高的硬度和杨氏模量,分别达28 GPa和350 GPa
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