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采用高纯铝、钛靶材，通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN／AlN—TiAlN复合多层膜，用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度，用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性。结果表明：膜层硬度为2856HV，耐磨性相比基材提高6倍以上。
电弧离子镀沉积TiN/AlN-TiAlN复合膜的耐磨性
【摘 要】
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采用高纯铝、钛靶材，通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN／AlN—TiAlN复合多层膜，用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度，用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性
【机 构】
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西北有色金属研究院腐蚀与防护研究所
【出 处】
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装备制造技术
【发表日期】
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2010年2期
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