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常温下，利用射频（RF）反应磁控溅射方法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜．采用光栅光谱仪对薄膜样品的透射谱进行测试，通过椭圆偏振光谱仪测试并拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数等光学参数，借助掠入射角X-射线衍射对薄膜的结晶状态进行了测试．实验结果表明：不同溅射功率下沉积的样品呈非晶态，在40～100W范围内，溅射功率越大，薄膜的沉积速率越大，但溅射功率对折射率和消光系数影响不大．