【摘 要】
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<正> 在印刷电路板制造过程中,高电镀能力的酸性镀铜工艺有取代焦磷酸盐镀铜的趋势;因为前者溶液的导电性高,沉积的铜层均匀性好。典型的高电镀能力的酸性镀铜溶液成份为铜15
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<正> 在印刷电路板制造过程中,高电镀能力的酸性镀铜工艺有取代焦磷酸盐镀铜的趋势;因为前者溶液的导电性高,沉积的铜层均匀性好。典型的高电镀能力的酸性镀铜溶液成份为铜15～20克/升,硫酸180～200克/升。有机添加剂系统由表面活性剂、整平剂和增韧剂组成。一般酸性镀铜都使用含硫的有机添加剂,如二丙二硫磺酸钠、苯基二硫丙磺酸钠、丁基二硫丙磺酸钠等。使用多种成份组合的添加剂,各个成份的消耗和分解速率不同,电镀溶液的维护就比较复杂。本文介绍的酸性镀铜溶液,应用单一的无硫添加剂,此外不用其他添加剂。无硫添加剂是一种高分子聚合物,在有双键或三键不饱和醇存在下,双官能团丙
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