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利用磁控溅射技术在熔融石英衬底上沉积铟锡氧薄膜（ITO），讨论了生长温度、沉积时间、激光辐照和退火对ITO薄膜结构及形貌的影响．随着沉积温度的升高和沉积时间的延长，薄膜的晶化程度得到明显的改善，方块电阻降低，并且薄膜的形貌从光滑表面的圆形多晶颗粒演变到枝权形貌．短时间的脉冲激光辐照使得枝权的尖状晶粒变得圆滑，导电性略有改善．ITO薄膜在可见光区的透过率在经过空气中退火处理后明显得以改善，平均透过率可以达到80％．