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采用离子注入方法和后续的退火工艺制作了1.3μm面发射电致发光（EL）器件结构的电流限制孔径,通过对此结构的电学和光学特性进行测试分析,获得了离子注入和退火温度的优化参数,工艺参数为离子注入剂量5×10^14cm^-2和450℃退火1min.结果显示随着电流限制孔径的缩小,器件的电阻呈线性增大;电流限制孔径的形成显著增强1.3μm面发射器件结构的电致发光强度,孔径为15μm的样品是没有限制孔径样品的4倍（注入电流3mA）,并就电流限制孔对EL器件结构电致发光的影响进行了物理解释.