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研究分析了基底温度、沉积速率、氧气分压、离子束辅助沉积等工艺参数和条件对TiO2膜层折射率的影响。研究表明，随着基底温度升高，TiO2光学膜层折射率呈上升趋势；随着沉积速率提高，TiO2膜层折射率存在极值；采用离子束辅助沉积工艺，可以有效提高TiO2膜层折射率值，所制备的TiO2膜为非晶态结构，具有较高的折射率和较小的光学损耗。