ITO膜的化学稳定性与刻蚀特性

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本文讨论了ITO膜的稳定性和刻蚀特性。比较了多种ITO膜的刻蚀液,得出加热至100℃的45%HI溶液和加热至50℃的HCI和HNO3的混合溶液人的刻蚀特性较为理想。 This article discusses the stability and etching properties of ITO films. The etching solutions of ITO films were compared. It was found that the etching properties of 45% HI solution heated to 100 ℃ and mixed solution of HCI and HNO3 heated to 50 ℃ were ideal.
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