中子辐照CZ硅单晶热处理后的电阻率变化

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shengyu0128
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
CZ硅单晶受中子辐照,产生辐照缺陷,使其电阻率相对于其原始值有一定的偏差,经氮气气氛、650~700℃热处理,其电阻率可以基本恢复原始值.
其他文献
福州瑞芯微电子CEO励民,自称是一家典型的三无IC厂商,即“无海归、无风险投资、无政府投资”。但就是这样一家三无公司,去年却成为中国MP3/MP4芯片市场的当红新星,引领了MP3厂商向
依据《中华人民共和国安全生产法》、《国务院关于特大安全事故行政责任追究的规定》和《江苏省安全生产监督管理规定》的要求,参照《苏州市重大事故应急处理预案》,结合本市实
科利登扩展了产品范围覆盖所有针对多种高速总线测试的数字解决方案。科利登SapphireS系列D-3208数字选件能为各种总线接口测试提供极大的父活性和先进的测试能力,速率可达千
问:近日,IBM研究院Thomas J.Watson研究中心科技副总裁——陈自强博士面对当前半导体业内三个问题。提出了自己的观点。第一是Silicon CMOS技术到底能够延长多久?半导体己经经过
铝线条条和硅氧化物通孔刻蚀后,传统上都是使用包含胺,重金属结合剂,表面活性剂及其他成分进行清洗.这些混合剂是用来高效去除刻蚀后残留物的,而不会对硅氧化物介质造成过量
Zetex Semiconductors近日宣布,委任业界资深专家Franz Riedlberger博士为公司首席技术官,全权负责公司技术部门的事务。