【摘 要】
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日本东海大学开发了一种再现性能好的低阻n型金刚石薄膜形成工艺,并制成了金刚石薄膜二极管。其成膜的关键工艺是在气相合成时添加磷。具体工艺是:采用热丝化学气相合成法,
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日本东海大学开发了一种再现性能好的低阻n型金刚石薄膜形成工艺,并制成了金刚石薄膜二极管。其成膜的关键工艺是在气相合成时添加磷。具体工艺是:采用热丝化学气相合成法,并在甲醇中溶解P_2O_5,再用丙酮稀释进行掺杂。所形成的金刚石薄膜电阻为100Ω/cm~2,是一般的金刚石薄膜电阻的千分之一。用该薄膜制成
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