Cu／Zr纳米多层膜微结构与力学性能

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【摘要】

：

本文利用直流磁控溅射方法在石英玻璃基片上制备了一系列自支撑Cu／Zr纳米多层膜，使用箱式电炉对多层膜进行退火处理，利用显微硬度计、x射线衍射仪、扫描探针显微镜表征了多层膜

【作者】

：

苑永涛方敬忠刘红陈志强

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所

【出处】

：

光电工程

【发表日期】

：

2008年10期

【关键词】

：

磁控溅射纳米多层膜显微硬度退火 magnetron-sputtering nano-multilayer films microhardness anne

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本文利用直流磁控溅射方法在石英玻璃基片上制备了一系列自支撑Cu／Zr纳米多层膜，使用箱式电炉对多层膜进行退火处理，利用显微硬度计、x射线衍射仪、扫描探针显微镜表征了多层膜的力学性能与微观结构，研究了不同工艺参数对纳米多层膜性能的影响。研究结果表明：当Cu调制层厚从42nm增加至140nm时，多层膜显微硬度从4．9GPa逐渐降低至4．0GPa；当Zr调制层厚从3．2nm增加至4．8nm时，显微硬度值从6．51GPa降低至5．64GPa，硬度值降低13．4‰而从4．8nm增至8nm时，显微硬度值变化不大（约5

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