【摘 要】
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在用真空阴极弧制备TiN和TaN两种薄膜的基础上,采用两个独立的金属弧源同时放电的方法成功制备出（Ti,Ta）N三元薄膜。通过X射线衍射、X射线光电子能谱、原子力显微镜对TiN、TaN
【基金项目】
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中国民航大学大学生创新创业训练计划(IEKCAUC2018008,201810059049)
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在用真空阴极弧制备TiN和TaN两种薄膜的基础上,采用两个独立的金属弧源同时放电的方法成功制备出（Ti,Ta）N三元薄膜。通过X射线衍射、X射线光电子能谱、原子力显微镜对TiN、TaN和（Ti,Ta）N薄膜的微结构、化学组分、表面形貌进行了比较分析,发现制备的（Ti,Ta）N三元薄膜是以立方结构为主的固溶体相构成,另外还存在单斜结构的Ta3N5相。与两种二元薄膜相比,其XRD图谱的衍射峰显著变宽,择优取向（200）的择优程度进一步加强。三元薄膜表面的Ti∶Ta∶N比为0.46∶0.34∶1,晶粒大小为纳米尺度。
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