【摘 要】
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针对谐振隧穿二极管（RTD）在通用电路应用中的局限性,提出并设计了自对准栅型谐振隧穿晶体管结构,进行了材料的分子束外延,采用传统湿法腐蚀、金属剥离、台面隔离和空气桥互连工
【机 构】
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天津大学电子信息工程学院,中国电子科技集团公司第十三研究所
【基金项目】
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国防科技重点实验室基金（9140C060C0603）和中国博士后科学基金（20060400189）资助项目.
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针对谐振隧穿二极管（RTD）在通用电路应用中的局限性,提出并设计了自对准栅型谐振隧穿晶体管结构,进行了材料的分子束外延,采用传统湿法腐蚀、金属剥离、台面隔离和空气桥互连工艺,初步研制出具有较明显栅控能力的谐振隧穿晶体管（RTT）单管,其峰值电流密度高达80.8kA/cm^2,峰谷电流比为3.6,负阻阻值在20Ω左右。研究还发现,器件的峰值电流随栅压增大而减小,谷值电流随栅压增大而增大,而且出现零点分离。这些现象与栅的纵向位置控制不当有关,可以通过减小栅间发射极宽度,缩短栅与势垒层距离,和减小发射层掺杂浓度
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