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针对激光测距系统中光路成像受电磁波干扰影响测量质量的问题 ,本文分析比较了金属光学薄膜与ITO薄膜的光学屏蔽特性。采用磁控反应溅射的方法在关键光学零件表面制备了 ITO膜 ,经过性能测试表明 :ITO膜可以满足现代激光测距的光路屏蔽要求
激光测距系统中光学屏蔽膜系的研究
【摘 要】
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针对激光测距系统中光路成像受电磁波干扰影响测量质量的问题 ,本文分析比较了金属光学薄膜与ITO薄膜的光学屏蔽特性。采用磁控反应溅射的方法在关键光学零件表面制备了 ITO
【机 构】
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扬州大学,扬州大学,扬州大学 江苏扬州225009,江苏扬州225009,江苏扬州225009
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2002年05期
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