CVD金刚石厚膜晶格缺陷分析

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sophia971
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形核面沿深度方向是逐渐变小的.化学气相沉积金刚石初期生长的晶体存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金刚石膜持续生长过程中,形核面和膜内部在高温下发生长时间的自退火,缺陷浓度下降,晶格松弛现象消除,晶格常数变小并趋于理论值.试验表明,经长时间高温自退火的金刚石厚膜比薄膜具有更高的耐磨性.
其他文献
随着电子技术的迅猛发展,半导体微电子元器件得到更为广泛的应用.特别是集成电路,越来越显示出它的优越性,广泛应用于工业自动化控制军用武器、电子装备中.因此,提高微电子器
针对K—means算法依赖于初始聚类中心、经常陷入局部最优解等缺点,利用模拟退火算法的全局优化特点,提出一种基于模拟退火的K—means算法。仿真结果表明该算法减弱了对初始聚类
浮动板调制器在现代雷达发射机中得到了广泛应用。介绍了一种阳极浮动板调制器,该调制器采用变压器隔离传输技术,解决了高压与低压之间脉冲与直流信号的传输问题,可广泛应用