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对使用磁控溅射法沉积的钨薄膜进行了热退火研究.指出,在低于300 ℃的退火温度范围内钨膜的结构和电学性质是不稳定的.
溅射钨薄膜热稳定性的研究
【摘 要】
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对使用磁控溅射法沉积的钨薄膜进行了热退火研究.指出,在低于300 ℃的退火温度范围内钨膜的结构和电学性质是不稳定的.
【机 构】
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南京大学物理系,北京航空航天大学非晶物理室
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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1991年1期
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