【摘 要】
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本计划的目的必须评价作为光学薄膜沉积程序的溅射方法。对这种程序作实验评价来说,选择五种基本材料作了评价:SiO、TiO_2、CeO_2、MgF_2和 ZrO_2。选 SiO 作靶材料,以便评
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本计划的目的必须评价作为光学薄膜沉积程序的溅射方法。对这种程序作实验评价来说,选择五种基本材料作了评价:SiO、TiO_2、CeO_2、MgF_2和 ZrO_2。选 SiO 作靶材料,以便评价用反应溅射方法制备具有从1.9(SiO)到1.45(SiO_2)折射率的薄膜的重复性。其他材料被选作或高或低的折射率。
The purpose of this plan must be to evaluate the sputtering method as an optical thin film deposition procedure. For an experimental evaluation of such a program, five basic materials were selected for evaluation: SiO, TiO 2, CeO 2, MgF 2 and ZrO 2. SiO was selected as a target material in order to evaluate the reproducibility of a thin film having a refractive index of from 1.9 (SiO) to 1.45 (SiO 2) by the reactive sputtering method. Other materials are selected as either high or low index of refraction.
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