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简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论.
厚膜光刻工艺在PDP中的应用
【摘 要】
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简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论.
【机 构】
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南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心
【出 处】
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光电子技术
【发表日期】
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2001年1期
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