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介绍了半导体厂高纯气体供气系统的污染源；结构材料选择依据及新型金属材料的开发；兆位集成电路用超高纯气体中粒子控制规范，其中包括ＳＥＭＩ标准和各公司的企业标准；对供气系统中部件和材料和处理要求及安装；粒子过滤与计数技术；粒子测试技术。
半导体厂供气系统的“超净”技术
【摘 要】
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介绍了半导体厂高纯气体供气系统的污染源；结构材料选择依据及新型金属材料的开发；兆位集成电路用超高纯气体中粒子控制规范，其中包括ＳＥＭＩ标准和各公司的企业标准；对供气系统中部件和
【出 处】
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电子材料（机电部）
【发表日期】
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1995年11期
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