【摘 要】
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以G3镍基耐蚀合金为基材,在含有Na2SiF6和Si粉的NaCl–KCl–NaF熔盐中通过非电解的方式获得10μm左右的渗硅层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和显微硬度计分析了渗硅
【机 构】
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西安建筑科技大学冶金工程学院,西北工业集团计量理化二中心
【基金项目】
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国家自然科学基金(51501138)
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以G3镍基耐蚀合金为基材,在含有Na2SiF6和Si粉的NaCl–KCl–NaF熔盐中通过非电解的方式获得10μm左右的渗硅层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和显微硬度计分析了渗硅层的物相、微观结构和硬度分布。借助摩擦磨损试验机,以GCr15钢球作配副,对比研究了G3合金基材及其表面渗硅层的球-盘磨损行为。通过极化曲线和电化学阻抗谱测量,评价了渗硅层在体积分数为10%的H2SO4水溶液中的耐蚀性能。结果表明:所得合金化金属间硅化物渗层与G3基体结合牢固,均匀、连续、致密,表面硬度比基体高2
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