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用ＸＰＳ测得了真空解理后ＩｎＰ样品（１１０）表面能带弯曲的动态过程，并对引起ＩｎＰ表面能带弯曲的可能原因进行了讨论。排除了本征表面态、真空中残留气体和Ｘ射线辐射先等原因，认为解理过程在表面产生的缺陷和解理后表面晶格驰豫产生的缺陷可能是导致能带弯曲的原因。
InP（110）解理面的能带弯曲
【摘 要】
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用ＸＰＳ测得了真空解理后ＩｎＰ样品（１１０）表面能带弯曲的动态过程，并对引起ＩｎＰ表面能带弯曲的可能原因进行了讨论。排除了本征表面态、真空中残留气体和Ｘ射线辐射先等原因，认为解理过程在表面产生的
【机 构】
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清华大学化学系,香港中文大学化学系
【出 处】
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物理化学学报
【发表日期】
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1999年4期
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