【摘 要】
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＜正＞光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成。光刻胶透过光线，其化学特性会发生变化，因此，把光刻胶涂敷在硅基片上，经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的图形复刻到硅基片上。目前，光刻胶已成为光电信息产业中图形复刻加工技术的关键性材料，在行业内得到广泛应用。
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＜正＞光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成。光刻胶透过光线，其化学特性会发生变化，因此，把光刻胶涂敷在硅基片上，经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的图形复刻到硅基片上。目前，光刻胶已成为光电信息产业中图形复刻加工技术的关键性材料，在行业内得到广泛应用。
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