衬底温度对强流脉冲离子束烧蚀沉积类金刚石薄膜化学结构的影响

来源 :高等学校化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：laokai_zhangzichen

【摘要】

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采用强流脉冲离子束(High-intensity pulsed ion beam, HIPIB)烧蚀技术在Si(100)基体上沉积类金刚石(Diamond-like carbon, DLC)薄膜, 衬底温度的变化范围为298～673 K. 利用Ra

【作者】

：

梅显秀马腾才

【机构】

：

大连理工大学三束材料改性国家重点实验室

【出处】

：

高等学校化学学报

【发表日期】

：

2003年7期

【关键词】

：

衬底温度强流脉冲离子束烧蚀沉积技术类金刚石薄膜化学结构化学结合状态 Diamond-like carbon films High-intensity

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采用强流脉冲离子束(High-intensity pulsed ion beam, HIPIB)烧蚀技术在Si(100)基体上沉积类金刚石(Diamond-like carbon, DLC)薄膜, 衬底温度的变化范围为298～673 K. 利用Raman光谱和X射线光电子谱(XPS)对DLC薄膜的化学结合状态与衬底温度之间关系进行研究. 薄膜XPS的C1s谱的解谱分析得出薄膜中含有sp3C(结合能为285.5 eV)和sp2C(结合能为284.7 eV)成分, 根据解谱结果评价薄膜中sp3C含量. 根据X

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