金属／SiO2／Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜的J-V特性

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：rui6372472

【摘要】

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采用sol-gel方法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜.测试了其在直流电场下流过铁电薄膜的漏导电流J-V特性.测量结果显示正向漏电流明显小于负向漏电流.并讨论了

【作者】

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李建军王耘波郭冬云王龙海高峻雄于军

【机构】

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华中科技大学电子科学与技术系

【出处】

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电子元件与材料

【发表日期】

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2005年10期

【关键词】

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无机非金属材料 BI4TI3O12铁电薄膜 sol-gel方法 J-V特性肖特基发射空间电荷限制电流 inorganic non-metallic mate

【基金项目】

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国家自然科学基金

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采用sol-gel方法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜.测试了其在直流电场下流过铁电薄膜的漏导电流J-V特性.测量结果显示正向漏电流明显小于负向漏电流.并讨论了金属–铁电薄膜所形成的整流接触特性,以及金属/SiO2/Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜系统在不同电压范围(0～±6 V)的导电机制.

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