【摘 要】
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为提高纯聚酰亚胺（PI）的耐电晕性能,利用原位聚合法制备了不同组分无机掺杂的PI与氮化铝（Al N）纳米复合薄膜,通过扫描电镜、XRD及同步辐射小角X射线散射（SAXS）技术分析了无机纳米Al
【机 构】
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黑龙江科技大学工程训练与基础实验中心,黑龙江科技大学电气与控制工程学院
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为提高纯聚酰亚胺（PI）的耐电晕性能,利用原位聚合法制备了不同组分无机掺杂的PI与氮化铝（Al N）纳米复合薄膜,通过扫描电镜、XRD及同步辐射小角X射线散射（SAXS）技术分析了无机纳米Al N粒子在聚酰亚胺基体中的分散状态、结晶结构及电晕老化后复合膜的微观形貌,研究了不同Al N掺杂量对复合膜热稳定性和耐电晕性能的影响。结果表明：无机纳米颗粒在复合薄膜中分散均匀,有机与无机相的相容性良好;随纳米颗粒的掺杂含量增加,复合薄膜的热稳定性显著增强;随着掺杂Al N纳米粒子量的增加,复合薄膜在80 k V/m
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