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以原硅酸四乙酯(TEOS)作为硅源,使用St?ber法,制备出分布均匀、粒径大小可控的纳米SiO2颗粒,探讨了氨水用量、改性剂用量、反应温度以及反应时间对其粒径的影响。以二氯二甲基硅烷作为纳米SiO2的修饰改性剂,采用激光粒度仪和接触角测量仪对纳米SiO2颗粒粒径和接触角进行了表征。结果表明,St?ber法制备的纳米SiO2颗粒粒径平均在40 nm,当氨水用量逐渐增加时,纳米SiO2颗粒粒径逐渐增大;当反应温度逐渐升高时,纳米SiO2颗粒粒径逐渐减小;当反应时间逐渐增加时,纳米SiO2颗粒粒径呈现逐渐增大