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通过仿真对比分析单圈、两圈、三圈磁场的靶材利用率,选取三圈磁场进行磁场强度优化,根据仿真结果优化设计了多圈磁场、磁棒组合磁体结构的阴极溅射靶,经实验验证多圈磁场溅射靶制备的8英寸范围内薄膜均匀性优于±3％,靶材利用率达38.2％.
多圈磁场阴极溅射靶的优化设计
【摘 要】
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通过仿真对比分析单圈、两圈、三圈磁场的靶材利用率,选取三圈磁场进行磁场强度优化,根据仿真结果优化设计了多圈磁场、磁棒组合磁体结构的阴极溅射靶,经实验验证多圈磁场溅
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南 长沙 410111
【出 处】
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电子元器件与信息技术
【发表日期】
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2020年12期
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