磁控溅射法制备PZT基SMA／PZT异质复合材料

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jeffbee

【摘要】

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采用直流磁控溅射法在PZT基体上溅射沉积NiTiSMA薄膜，而制备出PZT基NiTiSMA／PZT异质复合材料。研究了溅射工艺参数与晶化温度对NiTiSMA薄膜相组成及SMA／PZT异质复合材料膜／基间结

【作者】

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刘庆锁吴小萍

【机构】

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天津理工大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2009年A01期

【关键词】

：

磁控溅射法晶化处理显微结构 NITI SMA/PZT异质复合材料 DC magnetron sputtering crystallization micro

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采用直流磁控溅射法在PZT基体上溅射沉积NiTiSMA薄膜，而制备出PZT基NiTiSMA／PZT异质复合材料。研究了溅射工艺参数与晶化温度对NiTiSMA薄膜相组成及SMA／PZT异质复合材料膜／基间结合状态的影响规律。结果表明，为保障NiTiSMA薄膜的晶体颗粒均匀、结构致密，膜／基间成分交换范围小及结合紧密，制备NiTiSMA／PZT异质复合材料的适宜工艺为：于基体温度150℃、氩气压强0．7Pa条件下溅射沉积NiTiSMA薄膜，再经600℃二次晶化处理。显微观察发现，NiTiSMA薄膜与PZT基体

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