碳化硅超声-电化学机械抛光试验研究

来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：firefly_xk

【摘要】

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为探究超硬脆碳化硅(SiC)材料的高效研抛方法,分别应用铸铁抛光盘、聚氨酯抛光盘、半固结磨粒抛光盘在自来水、KOH溶液、芬顿反应液3种研抛液中通过控制变量法对SiC进行了超

【作者】

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翟文杰翟权

【机构】

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哈尔滨工业大学机电工程学院

【出处】

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哈尔滨工业大学学报

【发表日期】

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2019年1期

【关键词】

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碳化硅超声电场机械抛光材料去除率表面粗糙度

【基金项目】

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国家自然科学基金(51475119)

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为探究超硬脆碳化硅(SiC)材料的高效研抛方法,分别应用铸铁抛光盘、聚氨酯抛光盘、半固结磨粒抛光盘在自来水、KOH溶液、芬顿反应液3种研抛液中通过控制变量法对SiC进行了超声-电化学机械研抛试验,得到以试件材料去除率和表面质量为评价指标的优化抛光工艺参数.试验结果表明:使用铸铁抛光盘时材料去除率高,但表面质量差;使用半固结磨粒抛光盘时表面质量最好,但材料去除率低;芬顿反应液对提高试件的材料去除率效果最好;在试件与抛光盘之间的电压为+10V时,试件的材料去除率最高,比无电压时提高了55.1%;当试件保持环施

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