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利用化学镀方法在水曲柳单板表面沉积Ni-Cu-P三元合金，考察镀液pH值和施镀温度对镀后单板电磁屏蔽效能的影响，利用X-射线衍射（XRD）和能谱（EDS）分析各镀层的组织结构和成分含量，采用扫描电镜（SEM）观察镀后单板的表面形貌。结果表明：镀液的pH值在8．5～9．5范围内，所得各镀层均为微晶态，但Cu和P的含量有所差异。镀液的pH值为9．25时，镀后单板的电磁屏蔽效能在9kHz～1．5GHz频段达50dB，镀层中Cu和P的含量分别为9．73％和1．70％；镀液的pH值恒定，施镀温度由60℃升高至72℃