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文章介绍了光电耦合器结构及其CTR参数,分析红外发光芯片和光敏接收芯片对光耦CTR值影响,重点讨论了工艺上内点胶操作与CTR的关系,提出了内点胶操作所形成光学通道的椭圆模型理论和各种点胶方式,并用实验进行验证和说明.最后总结出在生产过程中控制CTR值的芯片配对方案和工艺操作方法.
反射式光耦的CTR工艺控制
【摘 要】
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文章介绍了光电耦合器结构及其CTR参数,分析红外发光芯片和光敏接收芯片对光耦CTR值影响,重点讨论了工艺上内点胶操作与CTR的关系,提出了内点胶操作所形成光学通道的椭圆模型
【机 构】
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厦门华联电子有限公司
【出 处】
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光电子技术与信息
【发表日期】
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2004年5期
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