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Dry etching of new phase-change material Al_(1.3)Sb_3Te in CF_4/Ar plasma

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：donglu1116

【作 者】

：

张徐  饶峰  刘波  彭程  周夕淋  姚栋宁  郭晓慧  宋 

【出 处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2012年10期

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