【摘 要】
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O3/H2O2氧化降解木素适宜的工艺条件为:H2O2用量2.5%,pH值7.08,温度20℃,O3用量5%,不溶部分氧化木素的酚羟基与羧基含量明显上升,羧基含量比单独用臭氧氧化后增加了0.62mmol/
【机 构】
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南京工业大学,南京计算中心,南京林业大学
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O3/H2O2氧化降解木素适宜的工艺条件为:H2O2用量2.5%,pH值7.08,温度20℃,O3用量5%,不溶部分氧化木素的酚羟基与羧基含量明显上升,羧基含量比单独用臭氧氧化后增加了0.62mmol/g,酚羟基含量增加了0.95mmol/g;经过对不同氧化反应条件下分子质量分布的分析,与不添加H2O2的木素相比,水溶部分氧化木素有所增加,不溶部分氧化木素相对分子质量大于2000的组分的比例明显增加,氧化后木素的数均分子质量有所增加以及产生较多的醌型结构;在此条件下,磺化剂为5mmol/g时,磺化产物的水
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