【摘 要】
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用混合物理化学气相沉积法(hybrid physics-chemical vapor deposition简称为HPCVD)在Nb衬底上生原位制备了平均厚度是1.5μm的MgB2多晶膜样品,其起始超导转变温度Tc(onset)=
【机 构】
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空军航空大学,基础训练基地基础部物理教研室,北京大学物理学院,人工微结构与介观物理国家重点实验室,
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用混合物理化学气相沉积法(hybrid physics-chemical vapor deposition简称为HPCVD)在Nb衬底上生原位制备了平均厚度是1.5μm的MgB2多晶膜样品,其起始超导转变温度Tc(onset)=39.37K,转变宽度ΔTc=0.45K.样品由大量六边型片状晶粒组成.对样品进行了韧性测试,可以发现膜在弯曲120°后,虽然弯曲面处出现了裂纹,但膜仍很牢固的附着在衬底上,其超导电性仍可保持.
MgB2 polycrystalline films with an average thickness of 1.5μm were prepared in situ on a Nb substrate by hybrid physical-chemical vapor deposition (HPCVD). The initial superconducting transition temperature Tc (onset) = 39.37 K and the transition width ΔTc = 0.45 K. The sample consisted of a large number of hexagonal plate-shaped grains.The toughness of the sample was tested and it was found that although the crack was formed at the curved surface after the film was bent at 120 °, Very firmly attached to the substrate, the superconductivity can still be maintained.
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