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采用射频磁控溅射方法在Si（100）基底上制备了一系列ZrC／ZrB2纳米多层膜和ZrC，ZrB2单层薄膜．通过扫描电子显微镜（SEM），MS-T3000摩擦磨损仪及表面轮廓仪（XP-2）研究了薄膜的微结构和耐磨性．结果表明，多层膜的界面清晰，调制周期性好，周期为3．52nm的多层膜摩擦系数最小，约为0．24ZrC／ZrB2纳米多层膜的耐磨性优于ZrC和ZrB2单层薄膜；ZrC/ZrB2多层膜耐磨性提高的主要原因是，调制结构中大量界面的存在，提高了薄膜的韧性，从而增强了薄膜的耐磨性能．