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Ⅲ—Ⅴ族锑化物半导体材料
Ⅲ—Ⅴ族锑化物半导体材料
来源 :广东有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ericxinstar
【摘 要】
:
本文总结了Ⅱ-Ⅴ族锑化物半导体材料的进展,其中包括生长的物理化学原理和主要工艺,介绍了主要的锑化物体单晶、薄膜和结构材料,并列举了它们的性质以及这些材料应用于光电器
【作 者】
:
韦光宇
彭瑞伍
【机 构】
:
中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所上海(200050),上海(200050)
【出 处】
:
广东有色金属学报
【发表日期】
:
1992年2期
【关键词】
:
锑化物
物理化学
半导体材料
工艺
antimonide semiconductor materials
physical chemistry
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本文总结了Ⅱ-Ⅴ族锑化物半导体材料的进展,其中包括生长的物理化学原理和主要工艺,介绍了主要的锑化物体单晶、薄膜和结构材料,并列举了它们的性质以及这些材料应用于光电器件方面的最新结果.
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